芯片加工清洗等離子處理設(shè)備價格：誠峰智造

真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-MC-6L

名稱（Name）

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-VPO-MC-6L

控制系統(tǒng)

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,12.5kw

中頻電源功率（MF Power）

2000W/40kHz

容量（Volume）

235L（Option）

層數(shù)（Electrode of plies）

6（Option）

有效處理面積（Area）

500（L）*500（W）（Option）

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2

產(chǎn)品特點：處理空間大，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，有效控制設(shè)備運行。

可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求。

保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制。

高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，*的功能。

應用范圍：主要適用于生物醫(yī)療行業(yè)，印制線路板行業(yè)，半導體IC領(lǐng)域，硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。

 芯片加工清洗等離子處理設(shè)備價格

　　等離子表面處理機是低溫等離子體是低氣壓放電(輝光、電暈、高頻和微波等)產(chǎn)生的電離氣體，在電場作用下，氣體中的自由電子從電場獲得能量成為高能量電子。

　　這些高能量電子與氣體中的分子、原子碰撞，如果電子的能量大于分子或原子的激發(fā)能就會產(chǎn)生激發(fā)分子或激發(fā)原子自由基、離子和具有不同能量的輻射線，通過離子轟擊或注入聚合物的表面，產(chǎn)生斷鍵或引入官能團，使表面活性化以達到改性的目的。

　　等離子體表面活化：

　　在等離子體作用下，難粘塑料表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵，這些活性基團與等離子體中的活性粒子接觸會反應生成新的活性基團。但是，帶有活性基團的材料會受到氧的作用或分子鏈段運動的影響，使表面活性基團消失。

　　在等離子體對材料表面改性中，由于等離子體中活性粒子對表面分子的作用，使表面分子鏈斷裂產(chǎn)生新的自由基、雙鍵等活性基團，隨之發(fā)生表面交聯(lián)、接枝等反應。

　　反應型等離子體是指等離子體中的活性粒子能與難粘材料表面發(fā)生化學反應，從而引入大量的極性基團，使材料表面從非極性轉(zhuǎn)向極性，表面張力提高，可粘接性

　　此外，難粘材料表面在等離子體的高速沖擊下，分子鏈發(fā)生斷裂交聯(lián)，使表面分子的相對分子質(zhì)量增大，改善了弱邊界層的狀況，也對表面粘接性能的提高起到了積極作用”。

　　反應型等離子體活性氣體主要是02、H：、NH3、C02、H20、S02、H√H20、空氣、甘油蒸汽和乙醇蒸汽等。