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刻蝕設(shè)備PlasmaPro1000 Astrea

參考價(jià)面議
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  • 公司名稱上海繪吉電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2022/9/9 8:35:38
  • 訪問次數(shù)239
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上海繪吉電子科技有限公司主要代理歐、美、日及科學(xué)儀器、工業(yè)質(zhì)檢儀器及相關(guān)消耗品,專業(yè)涉及高校、新能源、鋼鐵行業(yè)、科研研究及輕工化工、在國內(nèi)特別是華東地區(qū)具有廣泛的客戶基礎(chǔ)和良好的商業(yè)信譽(yù)。經(jīng)過幾年的發(fā)展,繪吉公司已經(jīng)在同行業(yè)中確立了多方面的好的地位,無論在公司規(guī)模、人員素質(zhì)、經(jīng)營品種、銷售能力和售后服務(wù)等各方面獲得了同行及用戶的廣泛認(rèn)可。 上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀,真空系列等分析類設(shè)備),電池材料制備設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實(shí)驗(yàn)室耗材。。上海繪吉電子科技有限公司從事分析類儀器(熒光光譜儀,質(zhì)譜儀,粒度儀等分析類設(shè)備),德國普發(fā)真空設(shè)備,電池材料制備設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室儀器,理化分析類儀器,微生物儀器,生理儀器及實(shí)驗(yàn)室耗材。上海繪吉-德國普發(fā)真空Pfeiffer Vacuum-作為的真空技術(shù)解決方案的供應(yīng)商之一。我們不僅擁有全系列的混合軸承及全磁懸浮渦輪分子泵, 同時(shí)還擁有各種旋片泵,干泵,羅茨泵,氦氣質(zhì)譜檢漏儀,真空規(guī),四級(jí)質(zhì)譜儀等產(chǎn)品以及真空管件和綜合真空系統(tǒng)。 從普發(fā)1958年發(fā)明渦輪分子泵至今, 我們?cè)诜治?、研發(fā)、鍍膜、太陽能、半導(dǎo)體和其他工業(yè)領(lǐng)域,始終代表著創(chuàng)新的解決方案、高品質(zhì)、穩(wěn)定可靠的產(chǎn)品和的服務(wù)。公司自1890年創(chuàng)立至今百余年,現(xiàn)有將近2300名員工,20多家分公司遍布,并且在德國、法國、羅馬尼亞、韓國設(shè)有生產(chǎn)制造基地。隨著中國綜合國力的提升,產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)升級(jí),以及對(duì)節(jié)能減排,科研和高精尖制造工藝的強(qiáng)烈需求,對(duì)真空技術(shù)的需求也在不斷的提升。作為德國 Pfeiffer Vacuum GmbH 的全資子公司,普發(fā)真空技術(shù)上海有限公司 Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于 2007 年正式入駐中國上海,標(biāo)志著普發(fā)真空在中國的業(yè)務(wù)已經(jīng)初具規(guī)模,以及公司對(duì)中國持續(xù)增長的信心。公司現(xiàn)坐落于上海市浦東新區(qū)世紀(jì)公園附近,并且在江蘇無錫建有 4000m2 的售后服務(wù)工廠。上海繪吉電子科技有限公司獲得深圳科晶智達(dá)科技有限公司一級(jí)代理權(quán),科晶為研究新一代可充電電池,超級(jí)電容器與快速儲(chǔ)能材料提供最完整的成套解決方案。方案定位于鋰電池的研究市場,主要為大專院校、科研院所以及生產(chǎn)企業(yè)提供實(shí)驗(yàn)室用的小型混壓設(shè)備和機(jī)械加工與測試等一系列產(chǎn)品,提供研發(fā)環(huán)節(jié)所需的電池能源材料制備相關(guān)設(shè)備產(chǎn)品與成套實(shí)驗(yàn)室方案:“混料-燒料-分析-涂層-成型-封裝-測試”設(shè)備:球磨機(jī)、高溫高壓爐、材料分析儀、涂層機(jī)、軋機(jī)、切片機(jī)、封裝機(jī)、電池分析儀等。上海繪吉電子科技有限公司成功和進(jìn)口公司合作。德國普發(fā)真空設(shè)備,德國布魯克儀器有限公司,分析儀器有限公司,美國PE公司,美國熱電儀器有限公司,天美科技有限公司,島津,萊卡儀器,日本horriba,梅特勒等進(jìn)口公司
激光拉曼光譜,分子熒光光譜,激光粒度儀
刻蝕設(shè)備PlasmaPro1000 Astrea
刻蝕設(shè)備PlasmaPro1000 Astrea 產(chǎn)品信息

新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蝕設(shè)備,該設(shè)備可以為PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蝕提供解決方案,有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。

該設(shè)備可以批量刻蝕55 x 2” 到 3 x 8”的晶片,設(shè)備的設(shè)計(jì)符合了HBLED材料嚴(yán)苛的化學(xué)要求。PlasmaPro1000 Astrea損耗低、產(chǎn)量高,以保證客戶芯片的光輸出。

該設(shè)備的高配置體現(xiàn)在,處理腔可作為獨(dú)立模塊或集群配置,也可升級(jí)為四面集群設(shè)備以支持三個(gè)生產(chǎn)模塊。

為確保該設(shè)備高稼動(dòng)率性和易維護(hù)性,它的主要特性和優(yōu)勢(shì)包括:

  • 行業(yè),可處理直徑為690mm和高均勻性要求的等離子源。

  • 490mm的電極,可大批量處理55x2”, 14x4”, 7x6” 到3x8”尺寸的晶片

  • 高電導(dǎo)泵系統(tǒng)

  • 雙進(jìn)氣口使制程調(diào)整更順暢

  • 為晶片冷卻提供大夾具

  • Z字型的移動(dòng)方式確保晶片的均勻性

  • 硬件穩(wěn)定和易于維護(hù),確保正常運(yùn)行時(shí)間

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