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納米壓印光刻機(jī)

參考價(jià) 40000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱濟(jì)南恒樂興科儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)HL-GKJ
  • 所  在  地濟(jì)南市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2023/1/4 16:18:43
  • 訪問次數(shù)2850
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  濟(jì)南恒樂興科儀器有限公司,是一家開發(fā)研制各類試驗(yàn)機(jī)的。

  公司產(chǎn)品涵蓋金屬材料檢測與非金屬材料檢測,品種達(dá)一百多個(gè)。自主研發(fā)產(chǎn)品:電子試驗(yàn)機(jī)系列;液壓試驗(yàn)機(jī)系列;壓力試驗(yàn)機(jī)系列;扭轉(zhuǎn)試驗(yàn)機(jī);彈簧試驗(yàn)機(jī)系列;沖擊試驗(yàn)機(jī)系列、杯凸試驗(yàn)機(jī)系列、摩擦磨損系列、鋼絞線錨固松弛試驗(yàn)機(jī);人造板石膏板試驗(yàn)機(jī)系列;醫(yī)用接骨板試驗(yàn)機(jī)系列;外墻保溫材料試驗(yàn)機(jī);汽車安全帶拉伸、汽車防撞梁彎曲試驗(yàn)機(jī);鋼筋鋼管彎曲試驗(yàn)機(jī)系列;電纜繩索臥式拉力機(jī)系列;千斤頂檢定裝置;動(dòng)靜疲勞試驗(yàn)機(jī)系列、橡膠支座壓剪試驗(yàn)機(jī)系列;大噸位力學(xué)加載壓力機(jī);飛機(jī)起落架檢測系列;特殊定制大型試驗(yàn)機(jī)等。



試驗(yàn)機(jī),扭轉(zhuǎn)試驗(yàn)機(jī),壓力機(jī)大型加載框架,疲勞試驗(yàn)機(jī),試驗(yàn)機(jī)升級(jí)改造
納米壓印光刻機(jī),本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位,對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。
納米壓印光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

納米壓印光刻機(jī)本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位,對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。

   公司產(chǎn)品涵蓋金屬材料檢測與非金屬材料檢測,品種達(dá)一百多個(gè)。土木工程類高校用到的:大型多功能結(jié)構(gòu)試驗(yàn)系統(tǒng)、巖土工程試驗(yàn)系統(tǒng)、自平衡反力架、力學(xué)模型試驗(yàn)系統(tǒng)、電液伺服疲勞系統(tǒng)、高溫高壓應(yīng)力腐蝕試驗(yàn)系統(tǒng)、千斤頂檢定裝置等。另有全系列產(chǎn)品:電子wanneng試驗(yàn)機(jī)系列;液壓wanneng試驗(yàn)機(jī)系列;壓力試驗(yàn)機(jī)系列;扭轉(zhuǎn)試驗(yàn)機(jī);彈簧試驗(yàn)機(jī);沖擊試驗(yàn)機(jī)、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、鋼絞線錨固松弛試驗(yàn)機(jī);電纜繩索臥式拉力機(jī)系列;動(dòng)靜疲勞試驗(yàn)機(jī)系列、橡膠支座壓剪試驗(yàn)機(jī)系列;大噸位力學(xué)加載壓力機(jī);飛機(jī)起落架檢測系列;絕緣子檢測系列;特殊定制大型試驗(yàn)系統(tǒng)。:風(fēng)電葉片疲勞加載綜合測試系統(tǒng)、風(fēng)電機(jī)組葉片疲勞加載綜合測試系統(tǒng)、風(fēng)電葉片雙軸疲勞加載系統(tǒng)、風(fēng)電葉片面向旋轉(zhuǎn)疲勞加載系統(tǒng)、風(fēng)電葉片兩點(diǎn)疲勞加載系統(tǒng)等。

一、納米壓印光刻機(jī)技術(shù)參數(shù)

1.曝光時(shí)間調(diào)解器:0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
2.365-400nm光強(qiáng)傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán);
3.聲控功率警報(bào)裝置可防止系統(tǒng)功率超過設(shè)定指標(biāo);
4.有安全保護(hù)裝置的溫度及其氣流傳感器;
5.全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角:<1.84度;
6.波長濾片檢查及安裝裝置;
7.抗衍射反射功能高效反光鏡;
8.二向色的防熱透鏡裝置;
9.防汞燈泄漏裝置;
10.配備蠅眼棱鏡裝置;
11.配備近紫外(或深紫外)光源

12.主要配置:6“,8”光源系統(tǒng),
13.手動(dòng)系統(tǒng),半自動(dòng)系統(tǒng)
14.支持電源350-2000 。
15.支持深紫外近紫外波長(可選項(xiàng))。
16.支持背后對(duì)準(zhǔn)及MEMS工藝要求。
17.CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。
18.主要性能指標(biāo):光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity:--<±1% over 2”。 區(qū)域,--<±2% over 4”區(qū)域,--<±3% over 6”區(qū)域。
19.接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um。

二、主要用途

⒈ 本機(jī)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位,對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻機(jī)。

⒉ 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn),找平力小、使本機(jī)不僅適合單晶硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片、的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

3.工作方式 本機(jī)為單面對(duì)準(zhǔn)、單面曝光。

三、主要構(gòu)成主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場顯微鏡顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式無油真空泵、防震工作臺(tái)和附件等組成。

四、主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣適用于Φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。

2.結(jié)構(gòu)先進(jìn)具有半球式找平機(jī)構(gòu)和可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)。

3.操作簡便采用翻板方式取片、放片;按鈕、按鍵方式操作,可實(shí)現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能,操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡便。

4.可靠性高采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器;采用dute的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件,使本機(jī)具有非常高的可靠性。

5.特設(shè)“碎片”處理功能解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對(duì)準(zhǔn)的問題。

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