退火設(shè)備是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的??梢约訜峋约せ顡诫s劑,將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態(tài),修復(fù)注入的損傷,移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。
退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導(dǎo)體晶片而設(shè)計的設(shè)備完成的。退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐,超節(jié)能結(jié)構(gòu),采用纖維結(jié)構(gòu),節(jié)電0.6。
產(chǎn)品特點:
1、無噪聲,無環(huán)境污染。
2、蓄熱性小,熱量流失少。
3、控溫精度高,爐溫均勻性強。
4、自動化程度高,操作簡單。
5、可采用PID編程設(shè)定,全自動運行。
6、密封性好,壽命長,安全可靠。




















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