設(shè)備簡介

低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù)，低溫等離子體處理廢氣的原理為：當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的。

工作原理

首先廢氣經(jīng)均流板過濾棉進(jìn)入設(shè)備時，由設(shè)備高壓穩(wěn)定高頻放電，瞬間產(chǎn)生1.5萬伏特至2萬伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢氣分子由于鍵能較弱，約束力較小。很容易被擊穿化學(xué)鍵破裂，從而變成小分子化合物，此為一階段凈化。

其次，隨廢氣進(jìn)入設(shè)備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂，生成強氧化基團(tuán)羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團(tuán)與廢氣分子充分接觸氧化，加快反應(yīng)進(jìn)程。整個反應(yīng)干凈，能量利用率高，凈化效率非常高。

等離子功能段可以激發(fā)污染物能量，促使長鏈、多鏈污染物分子的分子鍵斷裂重組，使難處理的污染物降解為較易處理的低碳污染物。

等離子體化學(xué)反應(yīng)過程大致如下：

從以上反應(yīng)過程可以看出，電子先從電場獲得能量，通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到污染物分子中去，那些獲得能量的污染物分子被激發(fā)，同時有部分分子被電離，從而成為活性基團(tuán)。然后這些活性基團(tuán)與氧氣、活性基團(tuán)與活性基團(tuán)之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。

另外，高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質(zhì)俘獲，成為負(fù)離子。這類負(fù)離子具有很好的化學(xué)活性，在化學(xué)反應(yīng)中起著重要的作用。

等離子體技術(shù)優(yōu)點：

介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用。

反應(yīng)快，不受氣速限制。

采用防腐蝕材料，電極與廢氣不直接接觸，根本上解決了設(shè)備腐蝕問題。

只需用電，操作簡單，無需派專職人員看守，基本不占用人工費。

設(shè)備啟動、停止十分迅速，隨用隨開，不受氣溫的影響。

氣阻小，工藝成熟。