
技術(shù)指標(biāo):
純度:≥99.9995%
氧含量:≤5ppm
氫含量:500ppm-5%(可調(diào))
露點(diǎn):≤-70℃
特點(diǎn):
采用高效催化劑除氧,不需活化,除氧范圍廣,
適用于含氧量較高,對(duì)過(guò)量氫不作要求的工藝生產(chǎn)。
工藝流程
| 技術(shù)指標(biāo): 純度:≥99.9995% 氧含量:≤5ppm 氫含量:500ppm-5%(可調(diào)) 露點(diǎn):≤-70℃ 特點(diǎn): 本工藝適用于加過(guò)量氫除氧后再除氫和加欠量氫后再深度除氧的兩種方式,純化后氮?dú)庵兄缓形⒘垦鯕夂臀⒘繗錃?,適用于對(duì)過(guò)量氫有一定要求的工藝場(chǎng)合。 | |
| 3、JPDC-C型氮?dú)饧兓b置 | |
| 技術(shù)指標(biāo): 技術(shù)指標(biāo): |













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