JS-1600小型離子濺射儀采用二極(DC)直流濺射原理設計,操作簡單方便,適用于掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極的制作。
用戶可以根據自己的需要自行選擇不同的真空條件,濺射電流。大尺寸的真空腔體設計,滿足大樣品的濺射需求。標配一片金靶,純度為99.999%,為獲得高質量的金膜提供了好的基礎。
JS-1600小型離子濺射儀主要技術指標如下:
1.靶(上部電極):材料:金,直徑:50mm,厚度:0.1mm 純度:99.999%
2、真空室:直徑:160mm,高:120mm
3.樣品臺(下部電極):濺射面積:直徑:50mm
4.工作真空: 8×10-2—2×10-1 mbar
5.離子電流表:50mA
6.數顯計時器:根據濺射習慣設定單次濺射時間。
7.電壓:-1600DVC
8.機械泵:2升/每秒
9.工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,
10.微型真空氣閥: 配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節(jié),可連接φ3mm軟管。
11. 外型尺寸:360mm×300mm×380mm
備注:JS-600小型離子濺射儀可適用的靶材:金、鉑、銀及氧化鋅






















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