主要適用于半導(dǎo)體硅片、磁性材料、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的雙面高精度高效率的拋光加工。
設(shè)備采用四動(dòng)拋光原理;二電機(jī)分別拖動(dòng)上下拋盤、太陽輪、內(nèi)齒圈;PLC調(diào)整設(shè)定控制;彩色NT顯示的人機(jī)界面系統(tǒng)。設(shè)備配置大功率減速系統(tǒng),軟啟動(dòng)、軟停止,運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),拋光時(shí)間根據(jù)計(jì)時(shí)器可隨意設(shè)定,采用了自動(dòng)供給拋光液裝置。與拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進(jìn)行了特殊處理。通過精密稱重傳感器與高精密的氣動(dòng)控制系統(tǒng)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)了壓力閉環(huán)反饋控制,確保了工件壓力的準(zhǔn)確性。拋光液系統(tǒng)具有獨(dú)立攪拌、循環(huán)水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測功能,各功能可選配制做。
雙面拋參數(shù)
| 雙面拋參數(shù) | DP9B-5P | ||
| 1 | 上拋光盤規(guī)格 | Mm | 640*235 |
| 2 | 下拋光盤規(guī)格 | Mm | 640*235 |
| 3 | 游星輪規(guī)格 | 公制 | M =2;Z=114 |
| | | 英制 | DP=12;Z=108 |
| 4 | 游星輪數(shù)目 | 個(gè) | 5 |
| 5 | 加工厚度 | Mm | 1—30 |
| 6 | 加工件直徑 | Mm | 180 |
| 7 | 下拋光盤速度 | RPM | 60 |
| 8 | 主電機(jī) | Kw | 5.5 |
| 9 | 總重量 | Kg | 1500 |
| 10 | 外形尺寸 | Mm | 1100*920*2200 |




















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