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鈣鈦礦電池激光刻蝕劃線設(shè)備

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武漢元祿光電技術(shù)有限公司,是一家光電技術(shù)及應(yīng)用研究開發(fā)的高科技激光設(shè)備制造商,公司依托華中科技大學(xué)光電子科學(xué)與工程學(xué)院雄厚的技術(shù)支撐,致力于激光微細加工技術(shù)及設(shè)備的研發(fā)和制造。公司專注于高品質(zhì)微細精密激光切割、激光刻蝕、激光調(diào)阻、激光打孔、激光打標等產(chǎn)品研發(fā)與制造,公司現(xiàn)擁有紫外納秒、綠光納秒、紅外納秒、綠光皮秒等多種光源,擁有準直聚焦系統(tǒng)、振鏡聚焦系統(tǒng)等多種光學(xué)平臺,可配合客戶參與研發(fā)。公司已開發(fā)出多項具有技術(shù)的激光設(shè)備,積累了豐富的激光定制設(shè)備制造經(jīng)驗,為諸多客戶解決了生產(chǎn)效率的難題,并申請了包括多項激光核心技術(shù)在內(nèi)的產(chǎn)品。公司一直以高科技、高質(zhì)量為標準,為國內(nèi)外廣大客戶提供了優(yōu)質(zhì)的激光設(shè)備和技術(shù)保障服務(wù)。我們的精密紫外激光切割、激光刻蝕、激光打孔、激光打標等產(chǎn)品已經(jīng)覆蓋到多個領(lǐng)域,尤其是在科研項目、消費電子、太陽能光伏行業(yè)尤為突出。公司依托的華中科技大學(xué)光電子科學(xué)與工程學(xué)院在光電技術(shù)領(lǐng)域*的技術(shù)優(yōu)勢,使公司的紫外激光切割、刻蝕機、打標機成為國內(nèi)激光集成設(shè)備的。公司產(chǎn)品有紫外激光切割機,PCB激光切割、分板機,F(xiàn)PC激光切割機,陶瓷/硅片激光切割機,玻璃激光切割機,超快激光微加工系統(tǒng),IC芯片激光切割機,ITO/銀漿/金屬薄膜激光刻蝕機、紫外激光打標機、光纖激光打標機、CO2激光打標機等。公司專注于激光設(shè)備研發(fā)與制造領(lǐng)域,在工藝制造商我們積累了豐富經(jīng)驗,我們用專業(yè)的知識,高性能的設(shè)備,優(yōu)質(zhì)的服務(wù)回報客戶。公司的經(jīng)營理念:傳承文明、自主創(chuàng)新;服務(wù)客戶、用心用誠。公司的服務(wù)宗旨:客戶在哪里,服務(wù)就在哪里;客戶不滿足,永遠不放棄。
激光切割機
導(dǎo)電銀漿、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳、碳粉、金、銀、銅、鋁等導(dǎo)電金屬、石墨烯、碳納米管、氧化物、鈣鈦礦電池Spiro-OMeTAD、Perovskite、SnO2、C60、PCBM等鈣鈦礦電池材料激光刻蝕劃線處理
鈣鈦礦電池激光刻蝕劃線設(shè)備 產(chǎn)品信息

可根據(jù)需求將整個加工部分置入手套箱內(nèi)加工


根據(jù)不同場景的需求,配置納秒脈寬的紅外光纖(1064nm)、綠光(532nm)波段光源;皮秒脈寬的紅外光纖(1064nm)、綠光(532nm)、紫外(355nm)波段光源;飛秒脈寬的紅外光纖(1030nm)、綠光(515nm)波段光源進行微精細激光刻蝕、劃線、構(gòu)造去除、劃片、表面剝離等應(yīng)用。

 

適用于柔性PET/PI/PEN/玻璃等基底材料上的鈣鈦礦太陽能電池激光刻蝕劃線應(yīng)用。

 

玻璃、PET、PIPNT等基底上薄膜材料激光刻蝕,應(yīng)用于觸摸屏、光伏太陽能電池、電至色玻璃等行業(yè)。

 

適用于導(dǎo)電銀漿、ITOFTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳、碳粉、金、銀、銅、鋁等導(dǎo)電金屬、石墨烯、碳納米管、氧化物、鈣鈦礦電池Spiro-OMeTAD、Perovskite、SnO2、C60、PCBM等材料處理。特別是針對鈣鈦礦電池領(lǐng)域的陰電極、鈣鈦礦空穴傳輸層、阻擋層、鈣鈦礦層、陽電極激光刻蝕劃線技術(shù)上有獨到的技術(shù)優(yōu)勢。

 

采用自主研發(fā)的控制軟件、直接導(dǎo)入CAD 數(shù)據(jù)CCD相機定位自動激光刻蝕,操作簡單,方便快捷;采用通過軟件實時調(diào)節(jié)振鏡與直線電機、電動升降工作臺的設(shè)計,加上真空吸附托盤裝置,能有效地解決激光刻蝕加工運行中的平穩(wěn)性。


設(shè)備集數(shù)控技術(shù)、激光技術(shù)、軟件技術(shù)等光機電高技術(shù)于一體,具有高靈活性、高精度、高速度等制造技術(shù)的特征??纱蠓秶鷥?nèi)進行各種圖案,各種尺寸的精密、高速刻蝕,并且能夠保證很高的產(chǎn)能,是一個可靠、穩(wěn)定和具有高性能價格比的產(chǎn)品。

 

主要構(gòu)成:激光器、光路系統(tǒng)、運動控制系統(tǒng)、電控制系統(tǒng)、定位系統(tǒng)、抽塵系統(tǒng)、真吸附空系統(tǒng)、大理石龍門結(jié)構(gòu)、鈑金結(jié)構(gòu)件等。

 

型號

納秒紅外

ET650MIR

納秒綠光ET200MG

皮秒綠光/紫外

ET300MPS

飛秒紅外

ET300IRFS

實驗室用刻蝕機

ET200MIR

激光器

1064nm

532nm

532/355nm

1030nm

1064nm

波長/功率

20/30W

5/10W

10/15/30W

20W

20W

加工尺寸

100*100/200*200/300*300/400*300/600*600/600*900/700*1400mm可選

可定制加工幅面

110*110/140*140/

200*200mm可選

激光器頻率

1-2000KHz

30-150KHz

1-1000KHz

25-5000KHz

1-2000KHz

振鏡

10/14mm通光孔徑

10mm通光孔徑

聚焦鏡

40*40/70*70/110*110mm幅面(根據(jù)不同的應(yīng)用場景選擇)

100-200mm可選

擴束鏡

2X

8X/10X

1.5X

聚焦光斑

30μm

30μm

10μm

50μm

最小線寬

30μm

30μm

10μm

50μm

可根據(jù)需要可全部去除鍍層材料,如P4清邊處理  

最小線間距

30μm

30μm

10μm

50μm

整機精度

±15μm

/

適用類型

均可兼容對柔性基底及玻璃基底表面材料處理

Z軸電機行程

50mm(自動軟件控制)

手動500mm

工作臺定位精度

±3μm

/

工作臺重復(fù)精度

±1μm

/

CCD相機定位精度

±3μm

/

刻蝕速度

刻蝕速度4000mm/s(單線)

設(shè)備尺寸/重量

1200*1200*1700mm200*200mm幅面內(nèi)) 1000Kg     大尺寸及雙光路

1550*1450*1750mm600*600mm幅面內(nèi)) 1800Kg    

1050*700*1660mmL*W*H 300Kg

設(shè)備功耗

2500W

3000W

1500W

設(shè)備文件格式

標準CAD DXF文件

DXF/PLT/JPG

對比

用于P1導(dǎo)電層ITO/FTO單層材料處理,部分材料刻處理多層,特別是對清邊處理具有速度優(yōu)勢

相比較于納秒紅外可對P1/P2/P3/

P4刻蝕劃線,可對ITO/FTO、鈣鈦礦功能層、金屬/碳電極層進行刻蝕劃線

相比較于納秒紅外可對P1/P2/P3/

P4刻蝕劃線,可對ITO/FTO、鈣鈦礦功能層、金屬/碳電極層進行刻蝕劃線。優(yōu)勢在刻蝕下一層對上一層的損傷小,刻蝕邊緣影響小,火山口小

與皮秒脈寬波段相似,根據(jù)不同的場景選擇

只能針對單層材料刻蝕,可根據(jù)需要定制小型化產(chǎn)品幅面100-200mm

備注:量產(chǎn)后一般采用多種波段激光配合使用,非單臺機器完成所有膜層制作。











 


關(guān)鍵詞:PET PC
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