AT-XTB系列狹縫式涂布試驗機由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，主要應用于狹縫擠出式涂布，應用范圍廣泛，包括:有機光伏電池,有機場效應晶體管,導電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管,鈣鈦礦光伏電池,鋰離子電池的電解質和電極,染色敏感性太陽能電池.

由于常規(guī)實驗室涂布試驗機，受到刮刀調節(jié)，底板平整度等的影響很難達到涂布納米級膜。實驗室狹縫式涂布機底板采用多種平臺方式包括檢驗級大理石平臺，真空吸附平臺，精密模具鋼平臺，玻璃平臺等，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時高配版涂布機軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。濕膜厚度可以達到1微米，干膜厚度可以達到納米級別。在國內光學膜涂布實驗室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應用。

實驗室狹縫式涂布機技術參數：

1.狹縫擠出頭材質：不銹鋼

2.狹縫擠出頭涂布寬度：20-100mm

3.狹縫擠出墊片厚度:100 μm

3.狹縫擠出墊片套裝:   20 25 30 50  100mm墊片

4.電熱板溫度:120°C  （無）

5.行程長度:10-300mm   

6.運動方式：刮刀運動  

7.平臺速度:  10mm/min

8.平臺材質:大理石平臺

9.加料方式：注射器  

10.注射器速度:12 μm/s

11.注射速度:5 mm/s

12.涂布頭與基片之間活動距離:15 mm

13.管道和接頭材質:聚四氟乙烯管，不銹鋼魯爾接口連接器至螺紋連接件

14.電源參數：100 - 240 V 50Hz

15.動力系統(tǒng)：伺服電機

16.試樣展平方式：展平輥

17.尺寸規(guī)格:380 mm x 330 mm x 220 mm   （特殊尺寸可定做）

18.重量：35kg