AA6810石墨爐原子吸收光譜儀

實(shí)現(xiàn)了石墨爐和自動(dòng)化技術(shù)的*結(jié)合。將石墨爐和自動(dòng)進(jìn)樣器結(jié)合為一個(gè)模塊，解決了切換過(guò)程中的自動(dòng)進(jìn)樣器調(diào)節(jié)和光路校正問題。這種經(jīng)過(guò)上百個(gè)實(shí)驗(yàn)室工作檢驗(yàn)的石墨爐系統(tǒng)具有的性能價(jià)格比。

石墨爐原子吸收光譜儀可以與火焰科學(xué)儀器配合使用，從高濃度的ppm級(jí)到痕量的ppt級(jí)都可以分析；原子化器無(wú)需切換，大大簡(jiǎn)化了操作。

主要特點(diǎn)：

       6燈塔，并可多燈同時(shí)預(yù)熱；

       45位或者85位自動(dòng)進(jìn)樣器；

       zui大升溫速度 3000℃/s；

       石墨爐工作溫度為 室溫--3000℃；

       體積小，全自動(dòng)過(guò)程控制；

       自吸收扣背景，氘燈扣背景。

氣體控制：

      采用管內(nèi)和管外兩路氣體分別控制，分析過(guò)程中管外保持通氣，管內(nèi)氣體在原子化階段停氣，有效的保護(hù)石墨管，zui大限度延長(zhǎng)其壽命，又可獲得高分析靈敏度。

安全性：

       氣體壓力不足報(bào)警，并自動(dòng)停止升溫；

       冷卻水量不足報(bào)警，并自動(dòng)停止升溫；

       溫度過(guò)熱報(bào)警，并自動(dòng)停止升溫。

石墨爐溫度控制技術(shù)

     PID技術(shù)的引入有效克服了電壓波動(dòng)對(duì)溫度的影響使溫控過(guò)程每一個(gè)階段都能準(zhǔn)確控制，外界電源的變化幾乎對(duì)靈敏度和重復(fù)性無(wú)影響，測(cè)量數(shù)據(jù)重復(fù)性好。

AA6810石墨爐原子吸收光譜儀描述：

      同類儀器體積zui小700×550×440；

      優(yōu)秀的石墨爐高精度自動(dòng)進(jìn)樣技術(shù)；

      靈活的在線稀釋系統(tǒng)可大大減化分析操作，提高分析效率；

      可靠的安全保護(hù)系統(tǒng)，*的保護(hù)操作人員的安全。

石墨爐系統(tǒng)

zui大升溫速度                ≥3000℃/s

石墨爐工作溫度              室溫--3000℃

特征量                      Cd≤1pg,Cu≤10pg

精密度  相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差        Cd≤3%,Cu≤3%

重量                        80kg

尺寸                        700*550*440(mm)

安全                      過(guò)電流保護(hù)，保護(hù)氣體壓力不足報(bào)警/過(guò)溫自動(dòng)停止升溫                          

電源                        220V

功率                        6000w瞬時(shí)zui高功率

操作明了，功能*的分析軟件

全自動(dòng)控制和質(zhì)量控制:

        即使*次使用的操作者，也同樣可以獲得化的條件。儀器的安全聯(lián)鎖系統(tǒng)持續(xù)不斷地監(jiān)控系統(tǒng)中的安全關(guān)鍵部件，包括燃?xì)夂椭細(xì)鉅顟B(tài)、火焰是否點(diǎn)燃、氣體壓力和流量等許多項(xiàng)目。如果系統(tǒng)發(fā)現(xiàn)有任何一個(gè)項(xiàng)目存在不安全因素，火焰將被自動(dòng)熄滅。

       開機(jī)自檢，自動(dòng)檢測(cè)通訊、波長(zhǎng)、狹縫和燈位置等。

       自動(dòng)轉(zhuǎn)換波長(zhǎng)，狹縫大小，燈位置等。

       火焰燃助比控制。

       石墨爐升溫程序控制，自動(dòng)稀釋，自動(dòng)配置曲線等。

       保存所有不同統(tǒng)計(jì)方法的質(zhì)量控制圖

       對(duì)于超標(biāo)濃度的各種處理方法和相應(yīng)方式

  在線幫助功能：

       提供專家級(jí)的*提示與幫助，提供所有元素的光譜特性，火焰、石墨爐及氫化物法的參數(shù)及性能，干擾的消除，基體改進(jìn)劑的選擇等。