規(guī)格型號：HTBL - 底載式爐

設備說明：

HTBL底載式爐為石墨或金屬加熱爐

石墨爐有2200°C和3000°C兩種可選。石墨爐有50，80或者200l的不同容積，金屬爐只有60l。HTBL 60 MO/16-1G高加熱溫度1600°C，配有鉬制隔熱板和加熱元件。金屬爐特別適合應用非常純凈或者高真空的氣氛。HTBl也非常方便裝/卸樣品，爐膛可以下降并露出,以方便樣品任意方向放入爐內(nèi)而無任何限制。另外樣品熱電偶可以放置于指定位置，也可以訂購氣氛盒。底座的移動是自動控制的，液動動力驅(qū)動，當爐膛移動到低位置時，可以把爐膛手動外推90°C。氮氣，氬氣和氫氣可以單獨或者混用，也可以使用其他氣體。氣氛環(huán)境輕微過壓，分壓壓力在10到1000mbar之間，由氣體流量決定。不可使用空氣（氧氣）。氣路系統(tǒng)由各種進氣和控制裝置組成，由真空泵進行真空操作，各個獨立溫度控制裝置實現(xiàn)高溫度均勻性。

加硬，退火，回火，淬火，焊接，釬焊，排氣，熱解，硅化，碳化，快速預成型，燒結(jié)，分解，合成，升華，干燥，金屬注射成型（MIM），陶瓷注射成型（CIM）

產(chǎn)品優(yōu)勢

※金屬爐可提供高純度的氣氛環(huán)境（6N或更高）

※石墨爐高加熱溫度可達3000°C

※可提供氫分壓操作

※粉末樣品抽真空操作平穩(wěn)可控

※全自動操作

※質(zhì)量控制用數(shù)據(jù)記錄

典型應用

加硬，退火，回火，淬火，焊接，釬焊，排氣，熱解，硅化，碳化，快速預成型，燒結(jié)，分解，合成，升華，干燥，金屬注射成型（MIM），陶瓷注射成型（CIM）

技術細節(jié)

底載式石墨爐加熱元件為石墨，爐壁上加熱器由軟件控制，有過溫保護裝置。加熱棒沿著圓柱形的爐壁排列直到頂部。保溫材料是石墨纖維，外面包有水冷隔熱層。載/取樣須手動解開保險。

真空工作管需要手動放置/取出。爐膛的上下移動是全自動的，等到移動到低位，底座可以往外移出90°。HTBL可以支持量產(chǎn)應用，石墨爐配有紅外測溫儀和可移動熱電偶。高溫石墨爐的結(jié)構(gòu)可以根據(jù)客戶要求定制，氣氛盒也可以定制。請注意如果樣品不能接觸碳元素，那只能選擇金屬爐。HTBL金屬爐的爐壁也是由鎢或者鉬構(gòu)成，防輻射隔熱板也是和加熱元。

件一樣的材質(zhì)，一共有9層。如果加熱溫度不太高，那么隔熱板會適當減少。HTBL的直徑為400mm，加熱區(qū)高度500mm，非常適合高真空環(huán)境操作。鉬和鎢制爐都能經(jīng)受高溫高真空的考驗，在高溫下加熱元件都會變得很脆弱，使用需要小心。HTBL系列配有軟件全自動控制和數(shù)據(jù)記錄，預設步驟的相關信息都會后續(xù)記錄和處理，特別適合工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)的要求。

選配件

包括定制真空泵系統(tǒng)，操作軟件，多種氣體進氣接口，反應性和惰性氣體氣路，水冷系統(tǒng)（當現(xiàn)場沒有足夠水源供應時）。HTBL配有自動軟件操作系統(tǒng)，也可以定制附加加熱區(qū)。

真空泵系統(tǒng)：

HTBL系列配有初級真空泵做低度真空度操作，可配合轉(zhuǎn)子泵做高真空操作。更高真空度要求配備渦輪分子泵或油擴散泵。HTBL 200GR/22-1G 推薦配油擴散泵，抽真空速度非常快。通常大容積的爐子都會推薦用油擴散泵。下列為渦輪分子泵和油擴散泵的通常使用條件：

※渦輪分子泵 泵速 1200或1500l/s

※油擴散泵 泵速 8000m3/ h

水冷系統(tǒng)：

如果現(xiàn)場沒有水冷裝置，也可以訂購安裝。冷卻功率根據(jù)需要或者爐子的功率設計。

水冷系統(tǒng)：水冷機

反應性氣體裝置：

如果混合氣體中氫氣的比例超過4%，須配備安全燃燒裝置。出氣管路也需要加熱以避免可能的沉積?？商峁┒喾N惰性氣體連接爐子。為了保護加熱元件或者提供氣體更好的導向性，還可以訂購氣氛盒。

※反應性氣體設備

※多種惰性氣體氣路

※氣氛盒