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化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

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RTEC儀器公司總部位于美國(guó)加州硅谷圣何塞市,在歐洲瑞士擁有獨(dú)立研發(fā)和制造分公司,在美國(guó)東岸佛吉尼亞州和中國(guó)以及印度擁有應(yīng)用開發(fā)以及銷售和技術(shù)支持分公司。RTEC儀器專注于開發(fā)和制造力學(xué)以及光學(xué)測(cè)試相關(guān)領(lǐng)域高科技儀器,提供專業(yè)的測(cè)試解決方案,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于幾乎所有業(yè)界大學(xué),科研院所以及五公司工業(yè)研發(fā)以及質(zhì)量控制。Rtec儀器在材料測(cè)試領(lǐng)域擁有深厚的專業(yè)優(yōu)勢(shì)。 測(cè)試儀器包括摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、三維光學(xué)形貌儀、微納米壓痕/劃痕儀、高溫硬度、微動(dòng)測(cè)試機(jī),光學(xué)膜厚測(cè)試儀,化學(xué)機(jī)械拋光測(cè)試儀等??捎糜跐?rùn)滑、摩擦、磨損、粘附、微納米硬度、薄膜涂層結(jié)合力/內(nèi)聚力,表面粗糙度,化學(xué)機(jī)械拋光研發(fā)及薄膜厚度等納米級(jí)到宏觀級(jí)的性能測(cè)試。
高溫摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)
化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6 化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6概述RTEC化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6采用專業(yè)的方式研究和表征CMP工藝
化學(xué)機(jī)械拋光機(jī) 產(chǎn)品信息
化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6


化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6概述
RTEC化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6采用專業(yè)的方式研究和表征CMP工藝。 除了拋光晶圓和基板外,測(cè)試儀還配有在線表面輪廓儀。這種組合提供了有關(guān)表面、摩擦、磨損等變化的原因和方式的信息。測(cè)試儀還可以測(cè)量幾個(gè)內(nèi)聯(lián)參數(shù),如摩擦力、表面粗糙度、磨損量等,以便詳細(xì)了解過程。

特點(diǎn)
  • 集成的共聚焦3D顯微鏡,可以用nm分辨率表征拋光墊表面
  • 內(nèi)聯(lián)摩擦、聲發(fā)射研究拋光過程
  • 內(nèi)聯(lián)溫度傳感器
  • 可安裝多種晶圓尺寸
  • 可控制的下壓力和速度

標(biāo)準(zhǔn)配置有X,Y平臺(tái),可在拋光和成像位置之間移動(dòng)壓板。此外,XY平臺(tái)有助于在拋光過程中振蕩晶圓。使用帶有XY驅(qū)動(dòng)器的壓板允許多軸驅(qū)動(dòng)組合來創(chuàng)建自定義運(yùn)動(dòng),以模擬接近現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)環(huán)境的測(cè)試條件。

內(nèi)聯(lián)傳感器
扭矩 - 高分辨率內(nèi)聯(lián)扭矩傳感器可實(shí)現(xiàn)端點(diǎn)定位,并實(shí)時(shí)表征表面;
聲學(xué) - 聲音信號(hào),允許定性終點(diǎn)或幫助檢測(cè)拋光過程中的碎片、缺陷。
溫度 - 焊盤和靠近晶圓拋光表面的區(qū)域的在線溫度監(jiān)控有助于研究去除機(jī)制。

可編程負(fù)載、速度
為了優(yōu)化過程,CP-6允許使用基于配方的軟件控制和改變力、速度、流速。

易于使用
摩擦測(cè)量?jī)x配有快換載體,可輕松安裝晶圓和焊盤。該軟件帶有預(yù)定義的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)配方,或者可以輕松創(chuàng)建新的自定義配方。

集成在線3D輪廓儀


Rtec化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)配有內(nèi)聯(lián)集成的3D輪廓儀。經(jīng)過優(yōu)化,可以表征具有nm分辨率的拋光墊表面。探測(cè)器配有共焦模式+干涉儀模式+暗場(chǎng)和明場(chǎng)模式。 這允許以nm分辨率研究表面變化與時(shí)間的關(guān)系。該測(cè)試儀允許在大表面積上自縫合,以進(jìn)行體積磨損,粗糙度計(jì)算。











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