技術(shù)參數(shù)

• 型號RQMPD-2W

• 機體形式臺式雙盤

• 控制方式雙盤單控

• 轉(zhuǎn)向選擇雙轉(zhuǎn)向（正反轉(zhuǎn)）

• 磨盤轉(zhuǎn)速無極調(diào)速100-1450轉(zhuǎn)/分鐘+高低定速

• 主機功率550W

• 速度控制交流變頻控制器

• 磨盤直徑230mm（可選配200、250、300mm等規(guī)格）

• 出水噴灑萬向可調(diào)

• 外形尺寸850×750×450mm

• 電源220V

• 選配 常用耗材

• 常用耗材（選配）

• 金相砂紙240、600、1000/1500#（其他規(guī)格400、2000#等）適用于常規(guī)金屬類樣件的研磨

• 金剛石磨盤240、600、1000/1500#（其他規(guī)格400、2000#等）適用于超硬材料樣件的研磨

• 金剛石砂紙粒度：45-0.3μm（適合超硬材料的精密研磨及粗拋，如陶瓷、晶體等材料）

• 拋光布料呢料、絲絨、羊毛等（對特殊材料也需要采取粗拋、精拋等多道拋光工藝）

• 金剛石拋光劑粒度：45-0.5μm（比較廣泛的拋光輔料，適合各類材料的拋光）

• 金剛石懸浮液粒度：45-0.5μm（比較廣泛的拋光輔料，更適合自動磨拋機使用）

• 精細拋光液粒度：0.12-0.015μm（尤其適合軟金屬的精細拋光，如鋁合金、銅、金等材料）

• 磁性磨盤更便于更換砂紙及拋光布料