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嚴(yán)質(zhì)全光譜橢偏儀

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上海嚴(yán)質(zhì)檢測(cè)設(shè)備有限公司總部位于上海市;在廣東、無(wú)錫、蘇州別有加工工廠(chǎng),是一家專(zhuān)業(yè)做實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)設(shè)備、計(jì)量檢測(cè)設(shè)備并且代理國(guó)外進(jìn)口品牌TRIMOS 、WYLER 、SYLVAC 、KUNZ 、德國(guó)的WERTH 、OPTACOM 、JENOPTIK 、LAMTECH 等等。嚴(yán)質(zhì)不斷推出適用于行業(yè)檢測(cè)需要的新產(chǎn)品和新技術(shù),盡全力為各界用戶(hù)提供更加優(yōu)質(zhì)的服務(wù),加大研發(fā)力度,不斷推陳出新,為廣大客戶(hù)提供全面、優(yōu)質(zhì)的儀器設(shè)備及測(cè)試實(shí)驗(yàn)解決方案,用的服務(wù),介紹的產(chǎn)品。為您的生產(chǎn)提供質(zhì)量保證,為您的檢測(cè)提供標(biāo)準(zhǔn)。我們期待以產(chǎn)品為紐帶,用服務(wù)作橋梁,和您建立長(zhǎng)期融洽的伙伴關(guān)系。公司產(chǎn)品專(zhuān)業(yè)為航空航天、汽車(chē)、模具、電子、五金、精密機(jī)械、、光伏、化工、鑄造、研究院校、實(shí)驗(yàn)室等科研單位提供: 一、環(huán)境類(lèi):高低溫試驗(yàn)箱、快速溫變?cè)囼?yàn)箱、恒溫恒濕房、電熱鼓風(fēng)干燥箱、老化箱、冷熱試驗(yàn)箱、淋雨試驗(yàn)箱、步入式老化房、臭氧老化試驗(yàn)箱、氙燈老化試驗(yàn)箱、鹽霧老化試驗(yàn)箱、紫外光耐氣候試驗(yàn)箱、防塵試驗(yàn)箱、防水試驗(yàn)箱等; 二、光學(xué)類(lèi):光學(xué)影像測(cè)量?jī)x、三坐標(biāo)、手動(dòng)影像儀、全自動(dòng)影像儀、自動(dòng)龍門(mén)二次元影像儀等; 三、力學(xué)類(lèi):包裝紙箱試驗(yàn)機(jī)、材料試驗(yàn)機(jī)、拉力機(jī)、光伏片剝離力試驗(yàn)機(jī)、膠帶剝離力試驗(yàn)機(jī)、膠帶保持力試驗(yàn)機(jī)、高溫保持力試驗(yàn)機(jī)、吸合電磁式振動(dòng)臺(tái)等; 四、幾何量測(cè)量類(lèi):測(cè)高儀、量具、測(cè)長(zhǎng)儀、粗糙度輪廓儀、圓度儀、平面度檢測(cè)儀、水平儀、直線(xiàn)度垂直度檢測(cè)儀、工業(yè)CT等。
大型冷熱沖擊試驗(yàn)箱
產(chǎn)品應(yīng)用CHT-TP01是嚴(yán)質(zhì)針對(duì)光伏太陽(yáng)能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的高性能專(zhuān)用光譜橢偏儀,波長(zhǎng)范圍覆蓋紫外、可見(jiàn)到近紅外。CHT-TP01嚴(yán)質(zhì)光譜橢偏儀基于絨面太陽(yáng)電池專(zhuān)用的高靈敏度探測(cè)單元和光譜橢偏儀分析軟件,專(zhuān)門(mén)用于測(cè)量和分析光伏領(lǐng)域中多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如厚度)和物理參數(shù)(如折射率n、消光系數(shù)k),典型樣品包括:晶圓上的單層或多層納米薄膜樣品、PERC、TOPCON、異質(zhì)結(jié)、XBC等工藝的絨面太陽(yáng)電池鈍化膜檢測(cè)、單層減反膜(如Al2O3,SiNx,SiO2,TiO2等)、雙層減反膜檢測(cè)(如SiNx/SiO2,SiNx2/SiNx1,SiNx/Al2O3等)。也可用于測(cè)量塊狀材料的光學(xué)性質(zhì)。
嚴(yán)質(zhì)全光譜橢偏儀 產(chǎn)品信息

1)的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器測(cè)量技術(shù):Delta 測(cè)量范圍0-360°, 無(wú)測(cè)量死角問(wèn)題,也可消除粗糙表面引起的消偏振效應(yīng)對(duì)結(jié)果的影響;

2)粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測(cè)量:的光能量增強(qiáng)技術(shù)、高信噪比的探測(cè)技術(shù)以及高信噪比的微弱信號(hào)處理方法,實(shí)現(xiàn)了對(duì)粗糙表面散射為主和極低反射率為特征的絨面太陽(yáng)電池表面鍍層的高靈敏檢測(cè);

3)晶體硅太陽(yáng)電池背鈍化多層膜檢測(cè):專(zhuān)門(mén)針對(duì)多層薄膜檢測(cè)而設(shè)計(jì),可滿(mǎn)足晶體硅太陽(yáng)能電池領(lǐng)域中的雙層膜,如(SiNx/SiO2 ,SiNx2/SiNx1, SiNx /Al2O3 等)的檢測(cè);

4)秒級(jí)的全光譜測(cè)量速度:全光譜測(cè)量典型5-10 秒; 快速檢測(cè)小于 1 秒;

5)原子層量級(jí)的檢測(cè)靈敏度:測(cè)量精度可達(dá)0.05nm;

6)多入射角度調(diào)節(jié):多入射角度結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),增強(qiáng)了儀器測(cè)量的靈活性,尤其適合于復(fù)雜的樣品的測(cè)量場(chǎng)合;

7)視頻式樣品對(duì)準(zhǔn):精確完成樣品對(duì)準(zhǔn),并方便觀(guān)察,減小人為誤差;

8)一鍵式儀器操作:對(duì)于常規(guī)操作,只需鼠標(biāo)點(diǎn)擊一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的測(cè)量、 建模、擬合和分析過(guò)程,豐富的模型庫(kù)和材料庫(kù)也同時(shí)方便了用戶(hù)的高級(jí)操作需求。

型號(hào)CHT-TP01
一般指標(biāo)
光譜范圍

(U)245-1000nm(350-1000nm基礎(chǔ)款)

(UI)245–1700 nm

入射角度結(jié)構(gòu)(M)手動(dòng)變?nèi)肷浣嵌龋?0°-90°, 步距為5°, 重復(fù)性0.02 °
性能指標(biāo)
測(cè)量重復(fù)性*

針對(duì)Si上的100nm SiO2膜厚的標(biāo)片時(shí):

膜厚重復(fù)性:0.01nm

折射率重復(fù)性:0.0005

膜厚測(cè)量精度膜厚測(cè)量精度:±0.5nm
單次測(cè)量時(shí)間全光譜Ψ/ Δ值測(cè)量,典型測(cè)量時(shí)間 5-10 秒
光學(xué)和機(jī)械組件
橢偏原理

PSCA模式(P-起偏器,S-樣品,C-補(bǔ)償器,A-檢偏器)

光源:寬光譜光源

起偏器/檢偏器高質(zhì)量的偏振棱鏡,計(jì)算機(jī)高精度控制
測(cè)量光斑手動(dòng)調(diào)節(jié)光斑直徑,微光斑180um
光譜分辨率0.4nm
波長(zhǎng)數(shù)據(jù)間隔不大于0.5nm
載物臺(tái)兼容300mm╳3000mm 及以下尺寸的太陽(yáng)能電池樣品一體化樣品臺(tái)輕松變換可測(cè)量單晶或多晶樣品
樣品對(duì)準(zhǔn)自準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡&顯微鏡,用于精密樣品對(duì)準(zhǔn)(高度和傾斜度)電子視頻式圖像對(duì)準(zhǔn)
探測(cè)器高靈敏低噪聲光譜探測(cè)器
控制器含電路板、微控制器單元、電源、光源
計(jì)算機(jī)高品質(zhì)計(jì)算機(jī),含操作系統(tǒng)
輸出設(shè)備軟件界面支持輸出、輸入光譜數(shù)據(jù)
軟件
界面語(yǔ)言多語(yǔ)言,包括中/英文,默認(rèn)中文
權(quán)限管理

包括管理員權(quán)限、操作員權(quán)限,便于儀器的管理和使用

操作模式:一鍵式常規(guī)測(cè)量模式,初學(xué)者可方便應(yīng)用

高級(jí)分析模式:可進(jìn)行復(fù)雜材料的高級(jí)分析

光譜測(cè)量

● 自動(dòng)設(shè)置光學(xué)組件方位角

● 手動(dòng)/自動(dòng)執(zhí)行用戶(hù)定義的任務(wù)

● 光譜以標(biāo)準(zhǔn)的能量或者波長(zhǎng)單位顯示

● 樣品響應(yīng)的監(jiān)視,在線(xiàn)的Ψ和Δ表述

測(cè)量結(jié)果輸出

● 橢偏角度Ψ , Δ及其相關(guān)的其它輸出形式

● 介電函數(shù)

● 折射率、消光系數(shù)

● 多角度光譜測(cè)量、繪圖和擬合

● 偏振度

● 選擇波長(zhǎng)和角度數(shù)據(jù)剪輯,而不會(huì)改變?cè)紨?shù)據(jù)

● 合并不同數(shù)據(jù)于一個(gè)文件的合并功能

建模、模擬和擬合

能夠擬合多層結(jié)構(gòu)(單層膜、復(fù)合膜、周期交替多層膜),得出Ψ ,Δ 等;

● 易于使用、用戶(hù)可擴(kuò)展的材料數(shù)據(jù)庫(kù)

● 豐富的材料光學(xué)常數(shù)列表

● 材料色散模型:包括 Cauchy, Sellmeier ,Lorentz ,Drude 等 多種材料色散模型

● EMA 有效介質(zhì)近似

● 每一膜層可視作均勻膜、界面、粗糙面等 合成數(shù)據(jù)分析:

● 多入射角度測(cè)量

● 多種測(cè)量方法(橢偏Ψ/Δ 、透射、反射) 擬合:

● 對(duì)光學(xué)模型和測(cè)量數(shù)據(jù)的快速回歸擬合運(yùn)算法則

● 同時(shí)圖形化顯示實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)與模擬數(shù)據(jù)

結(jié)果顯示● 顯示圖形

的報(bào)表功能,輸出測(cè)量和計(jì)算光譜、光學(xué)模型和擬合參數(shù)

關(guān)鍵詞:控制器 EMA
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