該設(shè)備有兩種工作方式:
1.將鑲嵌材料和樣品同時(shí)放置在鑲嵌膜中,對鑲嵌料和樣品同時(shí)抽真空,該方式抽真空時(shí)間短,效率高。
2.可先對樣品抽真空,然后加入鑲嵌材料或染色劑等后,再對鑲嵌材料和樣品同時(shí)抽真空,這種方式,使樣品中的空隙填充更完整,結(jié)合更緊密。
該設(shè)備緊湊、快速、使用方便。
尺寸:長 X 寬 X 高 290 X 240 X 220mm
真空室尺寸:直徑120mm 高50mm
真空度:-0.09MPa




















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