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      HMDS真空烤箱的特點來源: 上海雋思實驗儀器有限公司HMDS真空烤箱的特點來源: 上海雋思實驗儀器有限公司一、HMDS真空烘箱技術(shù)參數(shù)：

      電源電壓：AC220V±10%/50Hz±2%

      輸入功率：2400W

      控溫范圍：室溫+10℃-250℃

      溫度分辨率：0.1℃

      溫度波動度：±0.5℃

      達(dá)到真空度：133Pa

      容積：90L

      工作室尺寸（mm）：450*450*450（可選擇）

      載物托架：2塊

      二、HMDS真空烤箱的使用優(yōu)點

      1、JS-HMDS真空烤箱預(yù)處理性能更好，由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮氣置換再進行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將＂去水烘烤＂和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有著更好的處理效果。

      2、處理更加均勻，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

      3、效率高，液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。

      4、更加節(jié)省藥液，實踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多；

      5、更加環(huán)保和安全，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機，所以也不會對環(huán)境造成污染。