產(chǎn)品概述

　　X射線熒光光譜儀是一款高精度、高靈敏度的無(wú)損分析儀器，專為材料分析與元素檢測(cè)設(shè)計(jì)。它采用的XRF技術(shù)，能夠進(jìn)行快速、準(zhǔn)確的元素分析，并能識(shí)別多種元素成分。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)、礦產(chǎn)資源、金屬材料、電子產(chǎn)品等領(lǐng)域，特別適用于高精度的快速檢測(cè)和質(zhì)量控制。憑借其非破壞性檢測(cè)、快速分析能力和高靈敏度，X射線熒光光譜儀為用戶提供了可靠的分析結(jié)果，適合大批量樣的檢測(cè)。

　　產(chǎn)品特點(diǎn)

　　非破壞性分析：XRF技術(shù)允許對(duì)樣品進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)，無(wú)需破壞樣品即可進(jìn)行成分分析，這對(duì)于珍貴或樣品尤為重要。

　　快速分析：XRF分析速度快，可以在幾分鐘內(nèi)完成樣品的全元素分析，適合快速質(zhì)量控制和現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試。

　　廣泛的元素檢測(cè)范圍：能夠檢測(cè)從輕元素(如鈉、鎂)到重元素(如鈾)的廣泛元素，覆蓋周期表中的大部分元素。

　　高靈敏度和準(zhǔn)確度：XRF技術(shù)具有高靈敏度，能夠檢測(cè)到極低濃度的元素(ppm級(jí)別)，并且準(zhǔn)確度較高，適合準(zhǔn)確分析。

　　技術(shù)參數(shù)：

　　1、探測(cè)器

　　分辨率：2048 × 2048 像素(CMOS探測(cè)器)

　　探測(cè)面積：4.6 mm × 4.6 mm，適合高分辨率圖像分析

　　探測(cè)深度：23.5 mm × 15.0 mm

　　2、成分分析精度

　　分析精度：≤ 2 μm

　　成分測(cè)量精度：0.5%(測(cè)試樣品的元素濃度精度)

　　3、掃描速度與分析模式

　　掃描速度：2D成像掃描，≤ 1秒/幀(快速掃描模式)

　　成分分析模式：2D圖像分析，快速數(shù)據(jù)處理，適用于多元素分析

　　4、樣品平臺(tái)

　　較大尺寸：30 mm × 30 mm

　　支持多種樣品尺寸和形態(tài)，適應(yīng)不同材料的檢測(cè)需求

　　5、數(shù)據(jù)輸出與格式

　　輸出格式：支持STF、DICOM、JPEG等文件格式

　　數(shù)據(jù)接口：支持USB連接，便于數(shù)據(jù)傳輸與存儲(chǔ)

　　6、溫度范圍

　　樣品溫度范圍：-196°C至100°C(適合多種測(cè)試環(huán)境)

　　7、設(shè)備尺寸與功率

　　外形尺寸：650 mm(L)× 400 mm(W)× 550 mm(H)

　　功率：X射線熒光光譜儀具有低功耗設(shè)計(jì)，較大功率消耗100W

　　8、安全性

　　安全設(shè)計(jì)：符合國(guó)際安全標(biāo)準(zhǔn)，配備保護(hù)裝置，確保操作過程中的人員安全。