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Nanonics近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡(NSOM)

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Nanonics近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡(NSOM)是用于納米材料表征可獲得優(yōu)于光波長(zhǎng)分辨率的手段。通常近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡與原子力顯微鏡(AFM)結(jié)合使用，因此近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡可以獲得材料光學(xué)與形貌相關(guān)的信息。近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡通?？梢垣@得以下信息： * 反射率的改變 * 透過(guò)率的改變 * 折射率、極化、樣品材料的改變 * 材料局部應(yīng)力的改變引起光學(xué)性質(zhì)改變 * 材

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

Nanonics近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡(NSOM)技術(shù)參數(shù)

1 近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡(NSOM)操作模式: 透射模式，反射模式，收集模式，照明模式

2 原子力顯微鏡(AFM)操作模式: 敲擊模式，接觸模式(選配)，所有探針或樣品掃描的AFM操作模式

3 微分干涉對(duì)比(DIC) : 反射和透射

4 折射率成像(Refractive-Index Profiling): 反射和透射

5 在線(xiàn)遠(yuǎn)場(chǎng)共聚焦(和拉曼及熒光光譜成像): 反射和透射，針對(duì)選擇性拉曼散射超薄膜的探針增強(qiáng)拉曼散射

6 熱傳導(dǎo)及擴(kuò)展電阻成像:接觸模式，敲擊模式，音叉反饋模式(無(wú)反饋激光引入干擾信號(hào),選配)；熱探針可作為納米加熱器使用，納米熱分析、納米相轉(zhuǎn)變等應(yīng)用

******************************SPM掃描頭規(guī)格**************************
1 樣品掃描器：壓電材料制薄片掃描器 (3D Flat Scanner™)；厚度為7毫米

2 SPM掃描范圍：樣品掃描，*大100 microns (XYZ)

3 掃描分辨率： < 0.005 nm (Z)
< 0.015 nm (XY)
< 0.002 nm (XY) 低電壓模式

4 粗調(diào)定位范圍：6毫米

5 反饋機(jī)制：懸臂梁光束反彈反饋，音叉反饋(選配)

6 樣品尺寸：標(biāo)準(zhǔn)配置下,直徑*大*16毫米；正置顯微鏡下使用,直徑*大*34毫米特殊樣品形狀：如豎直樣品進(jìn)行邊緣成像等

7 探針：各種針尖外露的玻璃探針，各種常規(guī)懸臂梁硅探針均可使用

*******************************成像分辨率****************************
1 遠(yuǎn)場(chǎng)：受光衍射幾何限制

2 光學(xué)： 500納米

3 共聚焦： 200納米

4 近場(chǎng)掃描光學(xué)： 100納米，條件下可達(dá)到50納米(由探針孔徑?jīng)Q定)

5 形貌： Z向噪聲0.05納米 rms；XY橫向分辨率：由針尖直徑和樣品的卷積決定

6 熱成像： 100納米起，溫度靈敏度0.01oC，300 oC或更高(由樣品決定)

7 電阻成像： 25納米

主要特點(diǎn)

1、支持探針+樣品掃描，這對(duì)于波導(dǎo)材料&光子結(jié)構(gòu)的收集模式NSOM和拉曼增強(qiáng)都有極大的幫助；

2、擁有*棒的反射模式NSOM，的硬件設(shè)計(jì)確保系統(tǒng)進(jìn)行反射模式實(shí)驗(yàn)時(shí)擁有與透射模式一樣的收集效率(而一般來(lái)說(shuō)在相同的實(shí)驗(yàn)條件下，反射模式效率比透射模式低三個(gè)量級(jí))；

3、可以使用所有種類(lèi)的NSOM探針，包括我們的懸臂梁玻璃探針、直光纖探針、帶孔洞的懸臂硅探針、SERS探針、化學(xué)傳感Sol-gel探針等…；

4、我們磚利的玻璃探針?lè)N類(lèi)很多，包括NSOM探針、AFM探針、深溝探針、中空AFM探針、拉曼增強(qiáng)探針、離子敏感探針、玻璃絕緣納米金屬絲探針、納米電極、納米鑷子、熱探針(納米加熱)等等…；

5、可以進(jìn)行非接觸NSOM實(shí)驗(yàn)(采用帶孔洞的懸臂硅探針無(wú)法做到)；

6、針對(duì)液體生物材料NSOM成像擁有更強(qiáng)的信號(hào)(信號(hào)強(qiáng)三個(gè)量級(jí))；

7、XYZ向大范圍的掃描尤其是100微米深的Z向掃描范圍，對(duì)于大尺寸納米粒子、粗糙的表面SPM實(shí)驗(yàn)及共聚焦集成都是必須的；

8、的深溝探針及Flat scan™掃描器可用于帶深溝的MEMs和半導(dǎo)體器件掃描；

9、*佳的熱傳導(dǎo)模式成像，支持接觸模式、非接觸模式熱成像，100納米分辨率起；

10、采用磚利的FPNTM技術(shù)，進(jìn)**態(tài)或液態(tài)材料(蛋白質(zhì)、氯氣等類(lèi)似材料)納米加工；

11、的雙探針SPM&NSOM系統(tǒng)；

12、可與微拉曼光譜、SEM、FIB、光學(xué)顯微鏡實(shí)時(shí)在線(xiàn)聯(lián)用；

13、可以升級(jí)進(jìn)行條件下的NSOM或AFM工作……

儀器介紹

近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡(NSOM)也習(xí)慣稱(chēng)為掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡(SNOM)，是用于納米材料表征可獲得優(yōu)于光波長(zhǎng)分辨率的手段。通常近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡與原子力顯微鏡(AFM)結(jié)合使用，因此近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡可以獲得材料光學(xué)與形貌相關(guān)的信息。近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡通?？梢垣@得以下信息：

* 反射率的改變
* 透過(guò)率的改變
* 折射率、極化、樣品材料的改變
* 材料局部應(yīng)力的改變引起光學(xué)性質(zhì)改變
* 材料磁的性質(zhì)改變引起光學(xué)性質(zhì)改變
* 分子熒光
* 拉曼遷移、SHG或其他效應(yīng)引起的分子激勵(lì)

**********************近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡的基本構(gòu)造********************
進(jìn)行NSOM實(shí)驗(yàn)，必須將點(diǎn)光源靠到樣品表面納米距離，然后點(diǎn)光源掃描樣品表面，再收集探測(cè)經(jīng)過(guò)樣品表面的光學(xué)信號(hào)。我們使用經(jīng)金屬涂層處理的帶孔洞椎形光纖作為NSOM探針。光經(jīng)耦合進(jìn)入探針，從亞光波長(zhǎng)孔徑的探針**發(fā)出，NSOM的分辨率就是由孔徑的大小決定(*優(yōu)可以達(dá)到50納米)。點(diǎn)光源和樣品表面的距離通常通過(guò)正常的力反饋機(jī)制(與AFM相同)控制，因此可以進(jìn)行接觸、敲擊和非接觸模式的NSOM實(shí)驗(yàn)。針對(duì)不同的材料和實(shí)驗(yàn)，通常有四種NSOM操作模式：

* 透射模式成像——樣品經(jīng)過(guò)探針照明，光通過(guò)樣品并與樣品相互作用后被收集探測(cè)；
* 反射模式成像——樣品經(jīng)過(guò)探針照明，光從樣品表面反射并被收集探測(cè)；
* 收集模式成像——樣品經(jīng)遠(yuǎn)場(chǎng)光源照明(從上或下面均可)，探針將光信號(hào)從樣品表面收集；
* 照明收集模式成像——用同一根探針同時(shí)進(jìn)行照明和收集探測(cè)反射光；

收集的光可通過(guò)多種探測(cè)器探測(cè)，如APD(Avalanche Photo Diode)、PMT(Photomultiplier Tube)、InGaAs探測(cè)器、CCD或通過(guò)光譜儀探測(cè)，通過(guò)探測(cè)器得到的信號(hào)經(jīng)過(guò)數(shù)據(jù)處理得到樣品材料的NSOM圖像。