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塵埃粒子計(jì)數(shù)器PZG系列,采樣量 100 LPM,可以得到靈敏度0.3 μm . （或者: 28.3 LPM = 1.0 CFM, 靈敏度可達(dá)0.2 μm）. ...
通用型濾材測(cè)試系統(tǒng)不同系統(tǒng)配置可用于測(cè)試濾料、小型過濾元件、高效過濾器、一般通風(fēng)過濾器、壓縮空氣過濾器、車用空氣過濾器及油霧分離器等，特殊配置可滿足高溫、高濕條...
無掩膜曝光機(jī)美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩模紫外光...
粒子計(jì)數(shù)和粒徑分布可以同時(shí)得到,互不干擾.這是高精度氣溶膠粒徑譜儀1的 重要的要求. 新型的T型孔傳感器技術(shù),*次解決了消除邊緣效應(yīng)和重疊粒子計(jì)數(shù),使高 濃度氣...
四袋電子束蒸發(fā)器Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of ...
俄歇電子能譜儀（在線表面分析）The microCMA is a compact （2.75“ CF mount） cylindrical mirror typ...
離子束拋光系統(tǒng)磁隧道結(jié)介電界面涂層Rugate FiltersHigh-k 材料形狀記憶合金光電材料超導(dǎo)材料單一結(jié)晶GaN
脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定...
此系統(tǒng)致力于煙霧的研究，廣泛應(yīng)用在各國的煙火研究分析實(shí)驗(yàn)室，專業(yè)分析高標(biāo)準(zhǔn)濾材。 某些特殊行業(yè)需要超高潔凈度，對(duì)濾材要求高，例如核研究，制藥車間，半導(dǎo)體超凈室等...
質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)譜儀同時(shí)還可應(yīng)用真正的渦度相關(guān)法（eddy-covariance）技術(shù)，擴(kuò)展到對(duì)構(gòu)成和誘導(dǎo)生物揮發(fā)性有機(jī)化合物（VOCs）進(jìn)行生態(tài)系統(tǒng)通量...
該ALD擁有達(dá)到或超過市場(chǎng)上其他品牌的功能，同時(shí)易于使用和維護(hù) - 成本低于當(dāng)今市場(chǎng)上的價(jià)格腔室溫度：室溫到325°C±1°C;前軀體溫度從室溫到 150 °C...
動(dòng)態(tài)TOF-SIMS系統(tǒng)，它使用直流主束的飛行時(shí)間分析儀，創(chuàng)建了成像質(zhì)譜的新范式。直流一次離子束的使用允許快速成像和連續(xù)數(shù)據(jù)采集（即沒有單獨(dú)的蝕刻周期），同時(shí)提...
輪廓儀為了終應(yīng)用來選擇佳涂層或基底材料，客戶有必要不僅僅檢測(cè)摩擦系數(shù)，也需要檢測(cè)磨損速率。磨損速率測(cè)量可以提供可靠的結(jié)果，這可以允許客戶來決定手否樣品能夠達(dá)到應(yīng)...
便攜式粒徑譜儀具有穩(wěn)定的輸出和更長的使用壽命。所有系統(tǒng)包括一個(gè)可插入式過濾器（直徑47或50毫米）的接口。因此進(jìn)行氣溶膠組成成分的化學(xué)分析也是可能的。
粉體、散裝物料、顆粒、顆粒等在生產(chǎn)、運(yùn)輸和充填過程中會(huì)產(chǎn)生粉塵，這些粉塵會(huì)對(duì)職業(yè)安全和生產(chǎn)的可靠性產(chǎn)生負(fù)面影響。此外，灰塵污染環(huán)境，在生產(chǎn)損失中起著不可忽視的作...
idas Frog允許快速、可靠和有質(zhì)量保證地確定細(xì)粉塵，例如在工作場(chǎng)所健康、安全和環(huán)境（HSE）管理范圍內(nèi)（暴露評(píng)估）或在室內(nèi)空氣質(zhì)量測(cè)量范圍（例如辦公室、公...
差分靜電遷移率分析儀差分粒子電遷移器）被廣泛用于氣溶膠顆粒物的分離，DEMC又名DMA （Differential Mobility Analyzer.靜電遷移...
塵埃粒子計(jì)數(shù)器PZG系列,采樣量 100 LPM,可以得到靈敏度0.3 μm . （或者: 28.3 LPM = 1.0 CFM, 靈敏度可達(dá)0.2 μm）. ...
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無掩膜曝光機(jī)美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩模紫外光...
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