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上海嚴(yán)質(zhì)檢測設(shè)備有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號
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產(chǎn)品應(yīng)用CHT-TP01是嚴(yán)質(zhì)針對光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的高性能專用光譜橢偏儀,波長范圍覆蓋紫外、可見到近紅外。CHT-TP01嚴(yán)質(zhì)光譜橢偏儀基于絨面太陽電池專用的高靈敏度探測單元和光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測量和分析光伏領(lǐng)域中多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如厚度)和物理參數(shù)(如折射率n、消光系數(shù)k),典型樣品包括:晶圓上的單層或多層納米薄膜樣品、PERC、TOPCON、異質(zhì)結(jié)、XBC等工藝的絨面太陽電池鈍化膜檢測、單層減反膜(如Al2O3,SiNx,SiO2,TiO2等)、雙層減反膜檢測(如SiNx/SiO2,SiNx2/SiNx1,SiNx/Al2O3等)。也可用于測量塊狀材料的光學(xué)性質(zhì)。
1)的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器測量技術(shù):Delta 測量范圍0-360°, 無測量死角問題,也可消除粗糙表面引起的消偏振效應(yīng)對結(jié)果的影響;
2)粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量:的光能量增強(qiáng)技術(shù)、高信噪比的探測技術(shù)以及高信噪比的微弱信號處理方法,實(shí)現(xiàn)了對粗糙表面散射為主和極低反射率為特征的絨面太陽電池表面鍍層的高靈敏檢測;
3)晶體硅太陽電池背鈍化多層膜檢測:專門針對多層薄膜檢測而設(shè)計(jì),可滿足晶體硅太陽能電池領(lǐng)域中的雙層膜,如(SiNx/SiO2 ,SiNx2/SiNx1, SiNx /Al2O3 等)的檢測;
4)秒級的全光譜測量速度:全光譜測量典型5-10 秒; 快速檢測小于 1 秒;
5)原子層量級的檢測靈敏度:測量精度可達(dá)0.05nm;
6)多入射角度調(diào)節(jié):多入射角度結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),增強(qiáng)了儀器測量的靈活性,尤其適合于復(fù)雜的樣品的測量場合;
7)視頻式樣品對準(zhǔn):精確完成樣品對準(zhǔn),并方便觀察,減小人為誤差;
8)一鍵式儀器操作:對于常規(guī)操作,只需鼠標(biāo)點(diǎn)擊一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的測量、 建模、擬合和分析過程,豐富的模型庫和材料庫也同時(shí)方便了用戶的高級操作需求。
| 型號 | CHT-TP01 |
一般指標(biāo) | |
| 光譜范圍 | (U)245-1000nm(350-1000nm基礎(chǔ)款) (UI)245–1700 nm |
| 入射角度結(jié)構(gòu) | (M)手動(dòng)變?nèi)肷浣嵌龋?0°-90°, 步距為5°, 重復(fù)性0.02 ° |
性能指標(biāo) | |
| 測量重復(fù)性* | 針對Si上的100nm SiO2膜厚的標(biāo)片時(shí): 膜厚重復(fù)性:0.01nm 折射率重復(fù)性:0.0005 |
| 膜厚測量精度 | 膜厚測量精度:±0.5nm |
| 單次測量時(shí)間 | 全光譜Ψ/ Δ值測量,典型測量時(shí)間 5-10 秒 |
光學(xué)和機(jī)械組件 | |
| 橢偏原理 | PSCA模式(P-起偏器,S-樣品,C-補(bǔ)償器,A-檢偏器) 光源:寬光譜光源 |
| 起偏器/檢偏器 | 高質(zhì)量的偏振棱鏡,計(jì)算機(jī)高精度控制 |
| 測量光斑 | 手動(dòng)調(diào)節(jié)光斑直徑,微光斑180um |
| 光譜分辨率 | 0.4nm |
| 波長數(shù)據(jù)間隔 | 不大于0.5nm |
| 載物臺(tái) | 兼容300mm╳3000mm 及以下尺寸的太陽能電池樣品一體化樣品臺(tái)輕松變換可測量單晶或多晶樣品 |
| 樣品對準(zhǔn) | 自準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡&顯微鏡,用于精密樣品對準(zhǔn)(高度和傾斜度)電子視頻式圖像對準(zhǔn) |
| 探測器 | 高靈敏低噪聲光譜探測器 |
| 控制器 | 含電路板、微控制器單元、電源、光源 |
| 計(jì)算機(jī) | 高品質(zhì)計(jì)算機(jī),含操作系統(tǒng) |
| 輸出設(shè)備 | 軟件界面支持輸出、輸入光譜數(shù)據(jù) |
軟件 | |
| 界面語言 | 多語言,包括中/英文,默認(rèn)中文 |
| 權(quán)限管理 | 包括管理員權(quán)限、操作員權(quán)限,便于儀器的管理和使用 操作模式:一鍵式常規(guī)測量模式,初學(xué)者可方便應(yīng)用 高級分析模式:可進(jìn)行復(fù)雜材料的高級分析 |
| 光譜測量 | ● 自動(dòng)設(shè)置光學(xué)組件方位角 ● 手動(dòng)/自動(dòng)執(zhí)行用戶定義的任務(wù) ● 光譜以標(biāo)準(zhǔn)的能量或者波長單位顯示 ● 樣品響應(yīng)的監(jiān)視,在線的Ψ和Δ表述 |
| 測量結(jié)果輸出 | ● 橢偏角度Ψ , Δ及其相關(guān)的其它輸出形式 ● 介電函數(shù) ● 折射率、消光系數(shù) ● 多角度光譜測量、繪圖和擬合 ● 偏振度 ● 選擇波長和角度數(shù)據(jù)剪輯,而不會(huì)改變原始數(shù)據(jù) ● 合并不同數(shù)據(jù)于一個(gè)文件的合并功能 |
| 建模、模擬和擬合 | 能夠擬合多層結(jié)構(gòu)(單層膜、復(fù)合膜、周期交替多層膜),得出Ψ ,Δ 等; ● 易于使用、用戶可擴(kuò)展的材料數(shù)據(jù)庫 ● 豐富的材料光學(xué)常數(shù)列表 ● 材料色散模型:包括 Cauchy, Sellmeier ,Lorentz ,Drude 等 多種材料色散模型 ● EMA 有效介質(zhì)近似 ● 每一膜層可視作均勻膜、界面、粗糙面等 合成數(shù)據(jù)分析: ● 多入射角度測量 ● 多種測量方法(橢偏Ψ/Δ 、透射、反射) 擬合: ● 對光學(xué)模型和測量數(shù)據(jù)的快速回歸擬合運(yùn)算法則 ● 同時(shí)圖形化顯示實(shí)測數(shù)據(jù)與模擬數(shù)據(jù) |
| 結(jié)果顯示 | ● 顯示圖形 的報(bào)表功能,輸出測量和計(jì)算光譜、光學(xué)模型和擬合參數(shù) |
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