全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-XN

名稱(chēng)（Name）

全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)（Model）

CRF-APO-500W-XN

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz

等離子功率（Plasma power）

10KW（Max）/40KHz（Option）

有效處理寬幅（Processing width）

120mm-1200mm（Option）

有效處理高度（Processing   height）

3mm~8mm（Max）

處理速度（Processing speed）

0-8m/min

工作氣體（Gas）

N2/N2+CDA

產(chǎn)品特點(diǎn)： 內(nèi)置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能；

靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達(dá)10eV以上，

材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應(yīng)用范圍：應(yīng)用于FPC＆PCB表面處理，復(fù)合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理。

在現(xiàn)今等離子清洗機(jī)是如何解決溫度這個(gè)問(wèn)題的呢？

依據(jù)等離子體中的重粒子溫度，可以把等離子體分為兩大類(lèi)，熱等離子體和冷等離子體。以3×103K-3×104K，基本達(dá)到了熱力學(xué)平衡，具有統(tǒng)一的熱力學(xué)平衡溫度，可通過(guò)麥克斯韋的熱力學(xué)平衡態(tài)速度分布，波爾茲曼粒子能量分布，沙哈方程等方法確定等離子體狀態(tài)和參數(shù)。熱等離子體能量密度高，主要用于材料合成、球化、致密性和涂層保護(hù)。
在低溫等離子體中，重粒子的溫度只有室溫，而電子溫度可以達(dá)到成千上萬(wàn)度，因此遠(yuǎn)離熱力學(xué)平衡狀態(tài)，例如輝光放電屬于低溫等離子體。冷等離子主要用于等離子蝕刻、沉積和等離子表面裝飾。電洗滌溫度是許多用戶(hù)關(guān)心的問(wèn)題，電洗滌時(shí)，電洗滌火焰看起來(lái)也和一般的火焰差不多，而電洗滌設(shè)備如采用中頻電源，功率大，能量猛，不加水冷溫度也很高，若洗滌材料不耐溫，則需注意溫度。
電漿清洗機(jī)的電源常用的是13.56KHz射頻電源，它產(chǎn)生的等離子密度高，能量柔軟，溫度低，一般功率為1~2KW，大功率為5KW，小功率為數(shù)百W，多功率為40KHz，中頻功率為40KHz，與射頻電源相反，電漿密度不高，但功率大，能量高，大功率為幾十KW。真空等離子體清潔器放電射頻清潔器的溫度與平時(shí)室內(nèi)氣溫也差不多，當(dāng)然如果整天都在使用真空等離子體清潔器，還是需要加水冷卻系統(tǒng)。
電漿噴射的平均溫度介于200至250攝氏度。如果能夠正確設(shè)定距離和速度，表面溫度可以達(dá)到70-80℃。本工藝適用于各種標(biāo)準(zhǔn)品(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體等)的清洗，一般采用噴射式等離子體清洗裝置，也可應(yīng)用于流水線上的等離子體清洗裝置，由于流水線的不斷運(yùn)轉(zhuǎn)，材料在噴嘴下停留時(shí)間較長(zhǎng)。由于氮?dú)饽芙档偷入x子體溫度，有些噴射等離子體清洗也能使用氮。電暈放電需要注意的是，等離子體清洗機(jī)中還有一種產(chǎn)品叫做電暈，其實(shí)電暈也是等離子體清洗機(jī)的一種分類(lèi)。電暈機(jī)的洗滌溫度一般較高，電暈機(jī)與噴射等離子體的洗滌溫度相似，有時(shí)遇到不耐高溫的材料，也會(huì)用氮清洗。
事實(shí)上，沒(méi)有必要太擔(dān)心溫度問(wèn)題。目前的等離子清洗機(jī)可以很好地調(diào)節(jié)溫度，使材料清洗達(dá)到理想的效果(效果)。