1、產(chǎn)品概述
半導(dǎo)體晶圓腐蝕清洗系統(tǒng)采用半導(dǎo)體工藝要求的材料和工藝流程,可設(shè)計腐蝕槽清洗槽等工藝組合,
通討PLC加觸摸屏組合設(shè)計控制,可對硅晶圓實現(xiàn)需要的硅腐蝕HF處理沖水超聲吹干等工藝過程。
2、性能參數(shù)
裝片能力: 5時,6時,8時,150-300微米
清洗能力: 2cassette/Batch,25Pcs/cassette
主要材質(zhì): 聚丙烯磁白PP:阻燃聚氬乙烯PVC: SUS304不銹鋼,透明抗靜電PVC5T
防漏盤: 聚丙烯磁白 PP 板材
排風(fēng)通道: 內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板:控制方式:PLC+觸摸屏控制
工藝溫度: 30~80℃(可調(diào))
溫控精度: +0.5℃
工藝槽數(shù): 2-5個可選
工藝配方: 預(yù)先設(shè)置自動執(zhí)行
廢液回收: 機臺后方專用管道
設(shè)備維護: 狀態(tài)監(jiān)測手動點檢
工作環(huán)境: 千級凈化車間
3、相關(guān)服務(wù)
支持客戶定制服務(wù),提供顧客標準化工藝。




















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