一、產(chǎn)品概述
GMSD2000硬脂酸鈣高速納米研磨分散機(jī)是立式管線式三級(jí)研磨分散一體化設(shè)備,專門針對(duì)硬脂酸鈣濕法納米分散工藝開發(fā),適配水性硬脂酸鈣乳液、高固含硬脂酸鈣潤(rùn)滑漿料、納米硬脂酸鈣懸浮液規(guī)?;a(chǎn),廣泛服務(wù)造紙涂布、塑料潤(rùn)滑、涂料、醫(yī)藥輔料、生物降解材料行業(yè)。硬脂酸鈣漿料加工行業(yè)痛點(diǎn):硬脂酸鈣粉體疏水特性強(qiáng),極易形成硬團(tuán)聚干粉團(tuán)塊,常規(guī)攪拌難以潤(rùn)濕;顆粒表面能高,研磨后極易二次團(tuán)聚;加工溫升過高會(huì)造成硬脂酸鈣熔融、漿料膏化、粘度飆升;傳統(tǒng)設(shè)備粒徑分布寬,成品存放易分層、沉淀;涂布、塑料加工使用時(shí)出現(xiàn)白點(diǎn)、潤(rùn)滑不均;砂磨機(jī)存在介質(zhì)污染、清洗繁瑣,無(wú)法連續(xù)管線化生產(chǎn);高固含體系流動(dòng)性差,普通設(shè)備易堵腔。本機(jī)集成錐形預(yù)研磨 + 兩級(jí)梯度剪切納米分散復(fù)合結(jié)構(gòu),分級(jí)遞進(jìn)式能量輸入,一次性完成粉體潤(rùn)濕、硬團(tuán)聚破碎、納米級(jí)解聚、漿料均質(zhì);標(biāo)配全包覆水冷夾套精準(zhǔn)控溫,防止物料熔融結(jié)塊;支持配料罐閉路循環(huán)研磨與管線在線連續(xù)加工,無(wú)研磨介質(zhì)污染,是納米硬脂酸鈣分散液核心精制裝備。
二、工作原理
變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)三級(jí)模塊化定轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn),物料自上而下強(qiáng)制逐級(jí)通過各級(jí)工作單元,杜絕短路走料,分級(jí)實(shí)現(xiàn)研磨與納米分散:
一級(jí)錐形研磨破碎單元可調(diào)間隙錐形磨盤,依靠擠壓、摩擦作用撕裂硬脂酸鈣大團(tuán)聚體,促進(jìn)粉體與水 / 溶劑充分潤(rùn)濕,消除干粉魚眼,避免疏水粉體漂浮,實(shí)現(xiàn)初步預(yù)分散。
二級(jí)中剪切解離單元交錯(cuò)齒形定轉(zhuǎn)子形成可控湍流場(chǎng),剝離顆粒間軟團(tuán)聚,配合分散劑作用,破壞顆粒間范德華力,阻止納米顆粒重新聚集,搭建穩(wěn)定懸浮基底。
三級(jí)納米精細(xì)分散單元窄間隙精密剪切場(chǎng),進(jìn)一步細(xì)化固相顆粒,將粒徑推進(jìn)至亞微米 / 納米區(qū)間;變頻可調(diào)剪切強(qiáng)度,在實(shí)現(xiàn)超細(xì)分散的同時(shí)避免過度摩擦劇烈升溫,防止硬脂酸鈣熔融粘連。
整機(jī)自帶泵送能力,支持閉路循環(huán)研磨與直通連續(xù)出料;腔體夾套持續(xù)通入冷卻水,實(shí)時(shí)帶走剪切熱,穩(wěn)定控制料液溫度,規(guī)避漿料膏化、結(jié)塊問題。
三、整機(jī)結(jié)構(gòu)組成
驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)立式變頻電機(jī),可選防爆機(jī)型,無(wú)級(jí)調(diào)速;主軸高精度動(dòng)平衡,高固含粘稠硬脂酸鈣漿料長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)運(yùn)行振動(dòng)低。
三級(jí)硬脂酸鈣專用模塊化工作頭研磨 + 分散復(fù)合齒型,間隙微米級(jí)精準(zhǔn)可調(diào);鏡面拋光處理,不易粘附蠟質(zhì)物料;可根據(jù)目標(biāo)粒徑、漿料固含量切換齒型結(jié)構(gòu)。
研磨分散腔體接觸物料 316L 不銹鋼,內(nèi)壁鏡面拋光 Ra≤0.8μm,流道平滑無(wú)滯留死角,不易積料結(jié)蠟;外置全包覆夾套循環(huán)水冷,全域換熱控溫。
密封系統(tǒng)標(biāo)配博格曼雙端面獨(dú)立冷卻機(jī)械密封;氟橡膠密封件,耐弱酸堿、各類表面活性劑體系;獨(dú)立冷卻回路,避免密封摩擦熱量傳導(dǎo)至漿料。
機(jī)架與管路整機(jī) 304 不銹鋼底座,衛(wèi)生卡箍、DN 法蘭兩種連接方式,適配涂料、造紙、化工密閉自動(dòng)化管線。
可選配套組件真空緩沖脫泡罐、在線溫度監(jiān)測(cè)、移動(dòng)萬(wàn)向輪機(jī)架、溫度 - 轉(zhuǎn)速自動(dòng)化聯(lián)動(dòng)控制系統(tǒng)、進(jìn)料防堵模塊。
四、硬脂酸鈣工況專屬核心優(yōu)勢(shì)
分級(jí)研磨解聚,有效抑制納米顆粒二次團(tuán)聚梯度能量輸入,先破碎大團(tuán)聚,再精細(xì)化分散;配合分散劑充分發(fā)揮作用,縮小粒徑分布區(qū)間,提升漿料長(zhǎng)期儲(chǔ)存穩(wěn)定性,減少分層沉降。
低溫控溫加工,杜絕硬脂酸鈣熔融膏化全包覆夾套水冷結(jié)構(gòu),持續(xù)控制剪切溫升,避免硬脂酸鈣受熱熔融粘連,保障高固含漿料流動(dòng)性,適配 30%~55% 固含量水性硬脂酸鈣乳液生產(chǎn)。
無(wú)研磨介質(zhì),杜絕鋯珠金屬雜質(zhì)污染區(qū)別臥式砂磨機(jī),不需要研磨介質(zhì),不存在介質(zhì)磨損污染,成品純度更高,滿足醫(yī)藥輔料、造紙涂布、食品接觸材料質(zhì)控要求。
改善涂布與加工性能,消除制品白點(diǎn)缺陷納米級(jí)均勻分散,硬脂酸鈣顆粒分布均勻,用于紙張涂布提升潤(rùn)滑、防粘效果;在塑料加工中潤(rùn)滑分散均勻,減少應(yīng)力集中,改善薄膜表面瑕疵。
管線連續(xù)化生產(chǎn),易于自動(dòng)化集成可直接對(duì)接配料釜、過濾、灌裝生產(chǎn)線;閉路循環(huán)工藝細(xì)度穩(wěn)定可控,小試配方工藝參數(shù)可線性放大至量產(chǎn)。
腔體易清洗,方便多配方切換內(nèi)壁拋光不易掛蠟,清水循環(huán)沖洗即可;支持 CIP 在位清洗,快速切換不同固含量、不同助劑體系硬脂酸鈣漿料。
五、硬脂酸鈣高速納米研磨分散機(jī)的技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量(L/h) | 轉(zhuǎn)速(rpm) | 線速度(m/s) | 馬達(dá)功率(KW) | 進(jìn)出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
六、材質(zhì)與工況標(biāo)準(zhǔn)
過流部件:316L 不銹鋼;輔料工況可選無(wú)磁拋光材質(zhì);
密封件:氟橡膠;中性體系可選 FDA EPDM;
表面處理:腔體鏡面拋光,減少蠟質(zhì)附著;
電氣配置:普通變頻 / 防爆電機(jī)可選;
清洗條件:支持 CIP 在位清洗。
七、典型應(yīng)用場(chǎng)景
造紙涂布硬脂酸鈣潤(rùn)滑劑、水性涂料硬脂酸鈣分散液、PVC/PLA/PBAT 塑料潤(rùn)滑漿料、醫(yī)藥藥用輔料硬脂酸鈣懸浮液、橡膠脫模乳液、生物降解材料納米潤(rùn)滑體系;
可用于高固含硬脂酸鈣乳液、低粘度納米硬脂酸鈣分散液濕法精制工序。



















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